Příprava polovodičových součástek křemíkovou technologií
// Leden 17th, 2011 // No Comments » // Publikace
12. ledna 2011 jsem odevzdal svou diplomovou práci:
Příprava polovodičových součástek křemíkovou technologií
(Preparation of semiconductor devices by silicon technology)
Kousek níž v tomto příspěvku se nachází přepis úvodní kapitoly této mé práce. Celou práci je pak možné si prohlédnout ve formátu PDF zde: Diplomka.pdf
Součástí práce je i přiložené CD. Obsah tohoto CD je pak v tomto souboru: diplomka-priloha.zip
ANOTACE:
V předkládané práci se věnuji technologiím a procesům, používaným v Laboratoři polovodičů – čistých prostorách pro křemíkovou technologii a mikroelektroniku na Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a dále pak strukturám a součástkám, které byly vyrobeny v této laboratoři. Osobně jsem připravil několik křemíkových desek se třemi fotolitografickými kroky. V návaznosti na výrobu součástek jsem zprovoznil stanici hrotového měření mimo oblast čistých prostor a vytvořil jsem návod měření na této stanici. Díky tomu bylo možné rozšířit výuku v Laboratoři polovodičů o další úlohu – měření. Zprovoznění stanice umožňuje provést měření základních elektrických vlastností vyrobených součástek a vyhodnotit tak úspěšnost výroby.
Klíčová slova: Čisté prostory, fotolitografie, polovodičové součástky, stanice hrotového měření
ABSTRACT:
In the presented work I devote myself to study of technology and processes used in the Laboratory of Semiconductors – Clean room for silicon device technology and microelectronics at the Department of Condensed Matter Physics (ÚFKL) at Masaryk University. I focus on structures and components that are developed in this laboratory. Using a process with three photolitography steps I have processed a number of silicon wafers with a predefined structure. Further I have commissioned a workstation for probe measurements of devices outside of the clean room and created a measurement manual for this workstation. This allowed us to enhance teaching in the Laboratory of Semiconductors by a new task – the electrical measurement. Launching of the workstation enables the measurement of principal electrical properties (resistivity, capacity, V-A characteristics) of produced devices in order to evaluate the success of their production.
KEYWORDS: clean room, photolithography, semiconductor devices, probe measurement workstation, electrical measurement
Continue reading “Příprava polovodičových součástek křemíkovou technologií” »
