Archive for MUNI

Příprava polovodičových součástek křemíkovou technologií

// Leden 17th, 2011 // No Comments » // Publikace

12. ledna 2011 jsem odevzdal svou diplomovou práci:

Příprava polovodičových součástek křemíkovou technologií

(Preparation of semiconductor devices by silicon technology)

Kousek níž v tomto příspěvku se nachází přepis úvodní kapitoly této mé práce. Celou práci je pak možné si prohlédnout ve formátu PDF zde: Diplomka.pdf
Součástí práce je i přiložené CD. Obsah tohoto CD je pak v tomto souboru: diplomka-priloha.zip

ANOTACE:

V předkládané práci se věnuji technologiím a procesům, používaným v Laboratoři polovodičů – čistých prostorách pro křemíkovou technologii a mikroelektroniku na Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a dále pak strukturám a součástkám, které byly vyrobeny v této laboratoři. Osobně jsem připravil několik křemíkových desek se třemi fotolitografickými kroky. V návaznosti na výrobu součástek jsem zprovoznil stanici hrotového měření mimo oblast čistých prostor a vytvořil jsem návod měření na této stanici. Díky tomu bylo možné rozšířit výuku v Laboratoři polovodičů o další úlohu – měření. Zprovoznění stanice umožňuje provést měření základních elektrických vlastností vyrobených součástek a vyhodnotit tak úspěšnost výroby.

Klíčová slova: Čisté prostory, fotolitografie, polovodičové součástky, stanice hrotového měření

ABSTRACT:

In the presented work I devote myself to study of technology and processes used in the Laboratory of Semiconductors – Clean room for silicon device technology and microelectronics at the Department of Condensed Matter Physics (ÚFKL) at Masaryk University. I focus on structures and components that are developed in this laboratory. Using a process with three photolitography steps I have processed a number of silicon wafers with a predefined structure. Further I have commissioned a workstation for probe measurements of devices outside of the clean room and created a measurement manual for this workstation. This allowed us to enhance teaching in the Laboratory of Semiconductors by a new task – the electrical measurement. Launching of the workstation enables the measurement of principal electrical properties (resistivity, capacity, V-A characteristics) of produced devices in order to evaluate the success of their production.

KEYWORDS: clean room, photolithography, semiconductor devices, probe measurement workstation, electrical measurement

Continue reading “Příprava polovodičových součástek křemíkovou technologií” »

Praktika v Laboratoři polovodičů

// Leden 10th, 2011 // No Comments » // Publikace

V Laboratoři probíhá standardně výuka studentů Přírodovědecké fakulty Masarykovy univerzity. Mimo to jsou prostory nabízeny i jiným školám s nabídkou několika druhů praktik.

Ve výuce, která probíhá jako součást speciálních praktik studentů Fyziky kondenzovaných látek na PřF MU, jsou zařazena dvě krátká, jednodenní praktika:

1) Základy práce v čistých prostorách a princip fotolitografie
2) Technologie přípravy polovodičových součástek – rezistor, kondenzátor a induktor na křemíkové desce
pozn.: Návody na tato praktika lze najít na MONOCERU

Mezi další praktika, která probíhají v Laboratoři, je zařazena i úloha s názvem Výroby polovodičových prvků, vedená v rámci výuky předmětu Výroba součástek a konstrukčních prvků na FEKT VUT v Brně. Toto praktikum je vícedenní. Probíhá vždy jednou za 14 dní a střídá se s přednáškami k danému předmětu. Celkem má tato úloha pět dílčích částí. Oproti praktikám vedených PřF MU obsahuje tato úloha několik litografických kroků a umožňuje tak vyrobit složitější součástky jako jsou diody, tranzistory, struktury pro měření odporu, aj.

Zde najdete můj detailní popis tohoto praktika ve formátu PDF.
pozn.: Tento popis je také součástí mé diplomové práce. Pokud vás tematika zaujala, pak v diplomce toho najdete mnohem více.

Schottkyho dioda

// Září 20th, 2010 // No Comments » // Publikace

V roce 1938 navrhl německý fyzik Walter Hermann Schottky nový konstrukční prvek, diodu s přechodem polovodič-kov, která byla po něm později pojmenována. Schottky se výzkumu věnoval ve výzkumných laboratořích firmy Siemens und Halske (dnes Siemens AG), zabýval se mechanismem elektrického šumu, vlastnostmi prostorového náboje v elektronových trubicích a usměrňovači.

Takto začíná seminární práce, kterou jsem vypracoval společně s Ondřejem Ševelou do předmětu F5520 Principy polovodičových součástek.

Pokud si chcete tuto práci přečíst celou, je zde ke stažení ve formátu PDF.

UFKL PF2010

// Srpen 15th, 2010 // No Comments » // MUNI

V podzimním semestru 2009 se mi podařilo připravit grafický návrh pro oficiální PF Ústavu fyziky kondenzovaných látek PřF MU.
Toto PF bylo následně vyrobeno na křemíkové desce v laboratoři čistých prostor u nás na UFKL.

Zde je můj grafický návrh: Continue reading “UFKL PF2010” »

Hrotové měření

// Srpen 15th, 2010 // No Comments » // Publikace

V laboratoři polovodičů – čisté prostory pro křemíkovou technologii a mikroelektroniku na Ústavu fyziky kondenzovaných látek PřF MU v Brně probíhá každoročně několik druhů praktik jak pro studenty MU tak i pro studenty jiných vysokých škol.

V rámci své diplomové práce jsem vypracoval dokumentaci praktika, které v čistých prostorách má VUT v Brně.

Příprava a výroba polovodičových součástek testovací struktury litografickou cestou ve spolupráci s VUT Brno – PDF

Posledním krokem v tomto praktiku je proměření vlastností jednotlivých součástek. Jednou z mých úloh v rámci zmiňované diplomové práce bylo i připravit návod na toto měření, které probíhá mimo laboratoř čistých prostor. Měření se provádí na sestavě několika zařízení. Jedná se o vícenásobný sonda tester AVT – 110, charakteroskop TR-4807 a měřič RLCG BM 595.

návod: Hrotové měření vlastností polovodičových součástek – PDF